Contenuto
Oltre sette milioni di euro per potenziare il sistema di approvvigionamento idrico dedicato agli usi industriali nell’Etna valley. Il governo regionale, su proposta del presidente Renato Schifani, ha approvato in giunta la riprogrammazione di economie pari a 7,2 milioni nell’ambito del Piano sviluppo e coesione (Psc) Sicilia per l’ammodernamento del campo pozzi di Pantano d’Arci, nella zona industriale di Catania. L’intervento faciliterà la realizzazione di “Campus Sic”, impianto che sarà il primo in Europa in grado di svolgere tutte le fasi di produzione dei semiconduttori.
L’assegnazione delle risorse, richiesta dall’Amministrazione del capoluogo etneo, consentirà di realizzare il più urgente tra gli interventi del piano comunale che prevede il complessivo adeguamento delle infrastrutture idriche e fognarie al servizio del distretto tecnologico, condizione essenziale per supportarne la crescita in atto e attrarre nuovi investimenti. È già disponibile il progetto di fattibilità tecnica ed economica che, per l’esecuzione, richiederà 10 mesi dall’affidamento, in base al programma del Comune di Catania nel quale la società partecipata Sidra è individuata come soggetto attuatore.
“Questo intervento – evidenzia il presidente della Regione, Renato Schifani – conferma la volontà del mio governo di accompagnare con infrastrutture adeguate i grandi investimenti produttivi che stanno scegliendo la Sicilia. Garantire un sistema di approvvigionamento idrico efficiente nell’Etna Valley significa creare le condizioni per sostenere uno dei più importanti progetti industriali d’Europa nel settore dei semiconduttori. È un tassello di una strategia più ampia che vede la Regione impegnata nel rilancio dell’area industriale di Catania: poche settimane fa sono partiti i lavori di riqualificazione finanziati con 50 milioni di euro di risorse Fsc 2021-2027. Investire nelle infrastrutture significa attrarre nuovi investimenti, creare occupazione qualificata e rendere la Sicilia sempre più competitiva”.
Il “revamping” del campo pozzi della zona industriale di Catania è uno dei presupposti abilitanti per la realizzazione del “Silicon Carbide Campus” di STMicroelectronics, maxi-investimento da cinque miliardi che la Regione cofinanzia con 300 milioni di euro del Programma regionale Fesr 21-27, in linea con gli obiettivi della Piattaforma per le tecnologie strategiche per l’Europa (Step) e nel quadro del “Chips act” dell’Ue. Con “Campus Sic”, l’Etna valley ospiterà il primo impianto integrato del continente europeo capace di svolgere tutte le fasi di produzione di semiconduttori in carburo di silicio.
La proposta tecnica di riprogrammazione condivisa dalla giunta, avanzata congiuntamente dai dipartimenti Attività produttive e Acqua e rifiuti, è stata elaborata dal dipartimento Programmazione della presidenza della Regione. Sarà ora trasmessa al Comitato di sorveglianza del Psc Sicilia per l’approvazione della copertura finanziaria del nuovo intervento e il conseguente aggiornamento del Piano.
